合肥薄膜沉积PVD/CVD加热盘技术要点详解
在半导体制造工序中，PVD和CVD作为两大核心镀膜工艺，对晶圆表面的温度均匀性有着极为苛刻的要求。而加热盘作为承载晶圆并控制反应温度的关键部件，其性能直接决定了薄膜厚度的均一性和器件的良率。
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共 2 篇遂宁半导体产业如何选择可靠的薄膜沉积PVD/CVD加热盘？
薄膜沉积工艺中加热盘的关键作用 当我们走进一间现代化的半导体晶圆厂，PVD和CVD设备无疑是生产线的核心。在这些设备内部，一个决定薄膜沉积质量的关键部件就是加热盘。