#衢州蚀刻设备陶瓷技术解答

衢州蚀刻设备陶瓷技术解答：如何应对等离子环境下的损耗挑战

在半导体刻蚀制程中，工艺腔室内部处于高密度等离子体与强腐蚀性气体的双重作用下，设备关键零部件面临严峻的物理化学侵蚀。陶瓷材料因其优异的耐高温、电绝缘及抗等离子体性能，成为刻蚀设备腔体内部件的核心选择。