合肥薄膜沉积PVD/CVD加热盘技术要点详解
在半导体制造工序中,PVD和CVD作为两大核心镀膜工艺,对晶圆表面的温度均匀性有着极为苛刻的要求。而加热盘作为承载晶圆并控制反应温度的关键部件,其性能直接决定了薄膜厚度的均一性和器件的良率。
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在半导体制造工序中,PVD和CVD作为两大核心镀膜工艺,对晶圆表面的温度均匀性有着极为苛刻的要求。而加热盘作为承载晶圆并控制反应温度的关键部件,其性能直接决定了薄膜厚度的均一性和器件的良率。